Firma Intel Foundry ogłosiła, że zakończyła montaż pierwszej w branży komercyjnej maszyny do litografii o dużej aperturze numerycznej (High-NA) Extreme Ultraviolet (EUV).
2ZOBACZ GALERIĘ – 2 ZDJĘCIA
Advertisement
ASML dostarczył firmie Intel, swojemu pierwszemu klientowi, maszynę litograficzną Twinscan EXE:5000 High-NA o wartości 380 milionów dolarów. Wczoraj wysłała swoją drugą maszynę litograficzną High-NA EUV do tajemniczego klienta. Intel zmontował teraz maszynę do litografii High-NA EUV w swojej fabryce D1X w Oregonie, co stanowi kamień milowy dla Intela w przygotowaniu firmy na węzeł procesowy Intel 14A w 2025 roku.
Nowa maszyna ASML Twinscan EXE:5000 umożliwi firmie Intel drukowanie elementów nawet 1,7 razy mniejszych niż jest to możliwe w przypadku istniejących narzędzi EUV, ostatecznie pozwalając firmie Intel na zmniejszenie tranzystorów do mniejszych tranzystorów niż jest to możliwe w przypadku standardowych maszyn EUV o niskim współczynniku LA, co zapewni ogromne 2,9-krotna poprawa gęstości tranzystorów przy pojedynczej ekspozycji.
AMD przez lata korzystało z zaawansowanych węzłów procesowych TSMC w swoich chipach Ryzen i Radeon, a Intel zlecał na zewnątrz część produkcji Meteor Lake i innych nadchodzących procesorów w TSMC, ale teraz ma najnowocześniejszą maszynę litograficzną High-NA EUV firmy ASML. pozwolić firmie Intel nadrobić zaległości w przestrzeni węzłów procesów półprzewodnikowych.
Intel dysponuje obecnie najbardziej zaawansowanymi narzędziami do produkcji chipów na świecie, więc nie pozostanie w tyle, jeśli chodzi o wykorzystanie najnowszych węzłów procesowych, tak jak konkurenci. Nadchodzący węzeł procesowy Intel 14A (klasa 1,4 nm), a następnie węzeł procesowy Intel 10A nowej generacji (klasa 1 nm) zostaną wyprodukowane przy użyciu nowej maszyny litograficznej High-NA EUV.
Advertisement
Firma Intel najpierw zmniejszy ryzyko związane z nową technologią, opracowując punkty sprawdzające produkt w ramach nadchodzącego węzła procesowego Intel 18A w 2025 r., a następnie rozpocznie prace nad węzłem Intel 14A.
ASML pracuje nad systemem Twinscan EXE:5200B drugiej generacji, który jest w stanie wyprodukować ponad 200 wafli na godzinę (WPH), co stanowi niewielką poprawę w porównaniu z wydajnością 185 WPH w porównaniu z obecnym Twinscan EXE:5000 High-NA EUV maszyna do litografii.
Maszyna ASML Low-NA EUV poprzedniej generacji była w stanie osiągnąć jedynie 160 WPH, więc nowe systemy są coraz szybsze w miarę upływu lat. Intel zauważył również, że ASML pracuje nad trzema generacjami maszyn High-NA, więc z niecierpliwością czekamy na kolejne informacje na ten temat w miarę upływu miesięcy (i lat).