ASML e Intel hanno raggiunto il traguardo della “First Light” utilizzando l’ultimo sistema di litografia High-NA di ASML, accendendo la sua sorgente luminosa e facendo in modo che la luce raggiunga il wafer.
3Il nuovo sistema Twinscan EXE:5000 High-NA EUV di ASML consegnato a Intel (fonte: Intel)
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Il rapporto proviene da Reuters e si tratta di un primo passo fondamentale nella più recente tecnologia di produzione di ASM; il traguardo della “prima luce” significa che uno dei componenti critici del nuovo sistema Twinscan EXE-5000 di ASML è operativo, ma non al massimo delle prestazioni.
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Marc Assinck, portavoce dell’ASML, ha spiegato: “Tecnicamente, questa ‘prima luce’ è in realtà ‘la prima luce sul wafer’. La sorgente luminosa era già funzionante, ora abbiamo i fotoni ‘in resist’ sul wafer“.
Le nuove entusiasmanti macchine per litografia Twinscan EXE High-NA EUV di ASML sono dotate di ottiche di proiezione con un’apertura numerica di 0,55 che possono raggiungere una risoluzione fino a 8 nm con una singola esposizione. Rispetto a un normale sistema EUV a bassa NA che può ottenere una risoluzione di 13,5 nm con una singola esposizione.
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La nuova macchina per litografia Twinscan EXE:5000 High-NA EUV si trova presso il laboratorio ASML a Veldhoven, Paesi Bassi, mentre una seconda macchina è attualmente in fase di assemblaggio presso una struttura Intel vicino a Hillsboro, Oregon.
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