accelerazione 60x rivoluzionaria per produttori di chip come TSMC

NVIDIA ha annunciato la sua nuova GPU Blackwell al GTC 2024 questa settimana, con la società che ha annunciato che TSMC e Synopsys stanno utilizzando il suo software cuLitho in produzione per potenziare la litografia computazionale.

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Questo è un passo importante che aiuta i produttori di chip ad aggirare le limitazioni loro imposte man mano che entriamo nei transistor da 2 nm e più piccoli prodotti con macchine di livello successivo come le nuove macchine di litografia High-NA EUV di ASML. La potenza computazionale dietro questi chip continua a salire alle stelle, ed è qui che entrano in gioco NVIDIA e cuLitho.

NVIDIA ha utilizzato un esempio di un sistema basato su cuLitho che comprende 300 GPU AI H100, che ha fornito un gigantesco aumento delle prestazioni di 60 volte per un carico di lavoro che normalmente richiederebbe 40.000 sistemi GPU e l’incredibile cifra di 30 milioni o più ore di tempo di elaborazione.

Il software cuLitho di NVIDIA non è nuovo, l’azienda lo svelerà nel 2023, ma ora ha l’intelligenza artificiale generativa nel flusso di lavoro che fornisce un altro – sì, un altro – aumento di 2 volte delle prestazioni oltre agli incredibili guadagni senza intelligenza artificiale generativa e solo semplicemente il vecchio cuLitho che fa il suo dovere.

Dalla sua introduzione lo scorso anno, cuLitho ha consentito a TSMC di aprire nuove opportunità per una tecnologia di modellazione innovativa, dove testando cuLitho sui flussi di lavoro condivisi, TSMC ha realizzato un’accelerazione di 45 volte nei flussi curvilinei e un miglioramento vicino a 60 volte nei flussi di lavoro più tradizionali in stile Manhattan.

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Jensen Huang, fondatore e CEO di NVIDIA, ha dichiarato: “La litografia computazionale è una pietra miliare nella produzione di chip. Il nostro lavoro su cuLitho, in collaborazione con TSMC e Synopsys, applica il calcolo accelerato e l’intelligenza artificiale generativa per aprire nuove frontiere per la scalabilità dei semiconduttori“.

Il dottor CC Wei, CEO di TSMC, ha dichiarato: “Il nostro lavoro con NVIDIA per integrare l’elaborazione accelerata da GPU nel flusso di lavoro TSMC ha portato a grandi balzi in avanti nelle prestazioni, un notevole miglioramento del throughput, tempi di ciclo ridotti e requisiti di alimentazione ridotti. Stiamo portando NVIDIA cuLitho in produzione presso TSMC, sfruttando questa tecnologia di litografia computazionale per guidare un componente critico dello scaling dei semiconduttori“.

Sassine Ghazi, presidente e amministratore delegato di Synopsys, ha dichiarato: “Per più di due decenni i prodotti software di sintesi delle maschere Synopsys Proteus sono stati la scelta collaudata per accelerare la litografia computazionale, il carico di lavoro più impegnativo nella produzione di semiconduttori. Con il passaggio ai nodi avanzati, la litografia computazionale è aumentata notevolmente in complessità e costi di calcolo. La nostra collaborazione con TSMC e NVIDIA è fondamentale per consentire la scalabilità a livello di angstrom mentre siamo pionieri di tecnologie avanzate per ridurre i tempi di consegna di ordini di grandezza attraverso la potenza del calcolo accelerato“.